Ir-rekwiżiti tekniċi ewlenin tal-istampar tal-iskrin għat-teħid tal-pjanċi huma kif ġej.
① Il-materjal fotosensittiv għandu jkollu fotosensittività tajba u fotosensittività veloċi.
② Il-materjal fotosensittiv għandu jkollu preservazzjoni tajba.
③ Il-pjanċa ta 'l-istampar ta' l-iskrin tas-silikon għandu jkollha ħidma tajba u għandha tkun faċli biex topera.
④ Il-pjanċa tal-istampar tal-iskrin għandu jkollha reżistenza għolja għall-istampar u reżistenza tajba għall-brix.
⑤ Il-pjanċa tal-istampar tal-iskrin tas-silikon għandha żżomm ċertu grad ta 'preċiżjoni.
⑥ Il-pjanċa tal-istampar tal-iskrin għandu jkollha reżistenza għolja għall-ilma u reżistenza għas-solvent.
⑦ Il-materjal fotosensittiv għandu jkollu kapaċità qawwija li tifforma film u riżoluzzjoni għolja, u ma jeħtieġx żvilupp speċjali ta 'temperatura u likwidu dell.